下面筆者就談下藥廠設(shè)計(jì)之散播過(guò)程控制。塵粒和微生物在其散發(fā)、傳播過(guò)程中，都有可能對(duì)其他物品造成污染。其污染包括:流動(dòng)污染和表面污染。控制方法主要考慮:①控制塵粒和微生物的擴(kuò)散；②降低塵粒和微生物的濃度。
（1）藥廠設(shè)計(jì)之空氣過(guò)濾
微生物主要指細(xì)菌和真菌（霉菌），其粒徑絕大多數(shù)都在0.2μm以上。常見(jiàn)的細(xì)菌都在0.5μm以上，而且一般它們多依附于其他物質(zhì)或浮游塵粒之上，帶菌粒子的粒徑不小于1μm，因此，一般采用初效、中效、高（或亞高）效三級(jí)過(guò)濾，就可以消除絕大多數(shù)塵粒和微生物的危害。干燥設(shè)備進(jìn)風(fēng)口應(yīng)有過(guò)濾裝置，凈化處理后的氣體所含塵粒和微生物應(yīng)達(dá)到規(guī)定的藥品生產(chǎn)潔凈度要求。出風(fēng)口要有防止空氣倒流裝置，尤其是熱風(fēng)循環(huán)烘箱，通常可以考慮蝶閥、止回閥、密閉閥、插桿閥等一步制粒機(jī)、沸騰干燥機(jī)等可以考慮在出風(fēng)管路上設(shè)置布袋除塵器，兼起捕塵作用。
（2）藥廠設(shè)計(jì)之除塵
藥品生產(chǎn)過(guò)程中，有一些設(shè)備或操作會(huì)產(chǎn)生大量的粉塵，GMP要求產(chǎn)塵設(shè)備必需配備有效的除塵設(shè)施。
（3）風(fēng)向
①當(dāng)廠址不能避開(kāi)散發(fā)大量粉塵和有害氣體的地區(qū)時(shí)，應(yīng)將廠址設(shè)置在最大頻率風(fēng)向上風(fēng)側(cè)或最小頻率風(fēng)向下風(fēng)側(cè)。
②對(duì)于藥廠設(shè)計(jì)來(lái)說(shuō)，藥廠鍋爐房應(yīng)布置在廠區(qū)下風(fēng)側(cè)，且煤場(chǎng)和渣場(chǎng)宜靠近廠區(qū)邊緣。對(duì)有條件的地區(qū)宜考慮采用天然氣或燃油鍋爐。
③對(duì)于藥廠設(shè)計(jì)來(lái)說(shuō)，藥廠潔凈廠房應(yīng)布置在污染源（包括鍋爐房、動(dòng)物房、污水處理、原料車間、中藥前處理和提取車間等）上風(fēng)側(cè)。
④青霉素等高致敏性藥品的廠房應(yīng)布置在主導(dǎo)風(fēng)向的下風(fēng)側(cè)。
⑤除塵器或除塵間要就近布置在發(fā)塵工藝設(shè)備周圍。